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離子銑,也稱為離子束刻蝕。是具有強方向性等離子體的一種物理刻蝕機理,它能對小尺寸圖形產(chǎn)生各向異性刻蝕。
離子銑有兩個重要的優(yōu)點:定向性和普適性。刻蝕的定向性是由于離子束中的離子是通過一個強垂直電場來加速的,反應(yīng)室中的壓力很低,因此原子間的碰撞幾乎是完全是不可能的,結(jié)果,當(dāng)原子撞擊晶圓片表面時其速度是近乎完全垂直的。因為它是與化學(xué)特性無關(guān)的,因此對任何材料都可做各向異性刻蝕。
離子銑的第二個優(yōu)點是它可以用來刻蝕各種不同類型的材料,包括很多化合物和合金材料,即便它們沒有適當(dāng)?shù)膿]發(fā)性刻蝕生成物。靶的刻蝕速率由于材料不同所引起的變化一般不會超過三倍。
離子束最小直徑約10nm,離子束刻蝕的結(jié)構(gòu)最小可能不會小于10nm。聚焦離子束刻蝕的束斑可達(dá)100nm以下,最少的達(dá)到10nm,獲得最小線寬12nm的加工結(jié)果。相比電子與固體相互作用,離子在固體中的散射效應(yīng)較小,并能以較快的直寫速度進行小于50nm的刻蝕,故而聚焦離子束刻蝕是納米加工的一種理想方法。
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